Im Blickpunkt

Neue WK-Potenzial-Initiative "Si-Optik - Ultrapräzise Silizium Optik"

Ziel des im Januar bewilligten Jenaer WK Potenzials ist es, eine neue Technologieplattform mit dem Namen "Ultrapräzise Si-Optik" aufzubauen.

Das Fraunhofer IOF in Jena.

Basierend auf einer neuen Technologieplattform "Ultrapräzise Si-Optik" werden neuartige und kompakte
Silizium-Optiken, als reflektives (Spiegel), refraktives (Linse) oder diffraktives Element (Gitter) durch Kombination von bearbeitbaren dicken Silizium-Schichten entwickelt. Das langfristige Ziel ist die industrielle Produktion der neu entwickelten Silizium-Optiken.

Bevorzugte Technologien zur Herstellung der Silizium-Optiken sind die Substratvorfertigung mit Diamantwerkzeugen, das Magnetronsputtern (ein spezielles physikalisches Beschichtungsverfahren) zur Schichtaufbringung, präzisionsoptische Bearbeitungsverfahren zur Rauheits- und Formkorrektur der Schicht und Vergütungsverfahren (auf eine optische Komponente wird final noch eine spezielle Schicht z.B. Antireflexschicht aufgebracht). Vom Fraunhofer-IOF für Angewandte Optik und Feinmechanik wurden sowohl die Machbarkeit der Herstellung von dicken Si-Schichten auf der Grundlage von preiswerten Substraten, insbesondere Aluminium-Silizium-Legierungen, als auch die anschließende Bearbeitung dieser, geprüft. Die Ergebnisse waren sehr erfolgsversprechend, so dass im Rahmen der WK-Potenzial-Initiative Si-Optik weiterführende grundlegende Untersuchungen zu den Prozessen durchgeführt werden.


Nähere Informationen zum WK Potenzial Si-Optik finden Sie hier.

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